Установка для селективного травления эпитаксиальных структур кремния и декорирования сферических шлифов
Установка предназначена для селективного травления эпитаксиальных структур кремния и де-корирования сферических шлифов.
Рабочее пространство установки состоит из двух секций, разделенных перегородкой.
В левой секции размещаются две узкие ванны (шириной 140 мм), рассчитанные на погружение в них в вертикальном положении пластин диаметром до 200 мм, одна проточная ванна с деиони-зованной водой для погружения в нее кассет с пластинами диаметром до 200 мм и центрифуга для индивидуальной сушки пластин диаметром 76-200 мм. Ванны снабжены откидными крышками, которыми они будут закрыты при отсутствии в них пластин.
В правой секции размещена ванна для плавиковой кислоты глубиной 50 мм, в которую будет помещаться пластина диаметром от 76 до 150 мм в горизонтальном положении. На дне ванны имеются штырьки высотой 5 мм, которые позволяли бы легко извлекать пластину из ванны пин-цетом. Ванна освещается источником яркого света. Ванны снабжена крышкой. В правой секции шкафа также размещается проточная ванна с деионизованной водой для погружения в нее пластин диаметром до 150 мм. Ванна для химических реагентов изготовлены из фторопласта, промывочные ванны — из полипропилена.
Заполнение ванн химическими реагентами осуществляется вручную. Слив отработанных реак-тивов в химическую канализацию или приемные емкости.
ТЕХНИЧЕСКИЕ ХАРАКТЕРИСТИКИ И КОММУНИКАЦИИ
| Диаметр обрабатываемых пластин, мм | 76-200 |
| Гарабитные размеры установки, мм (длина - ширина - высота) | 1800 х 800 х 1800 |
| Потребляемая мощность сети 200 В 50 Гц , не более, КВт | 1 |
| Деионизованная вода марки «А», давлением 0,2-0,3 мПа, м3/ч | 1 |
| Вода питьевая, давлением мПа | 0,3-0,5 |
| Вытяжная вентиляция, м3/ч | 3000 |
| Химическая канализация, | Ду 5 |